離子濺射儀MSP-1S的鍍膜原理分析

發布日期：2023-06-26      瀏覽次數：893

離子濺射儀MSP-1S的鍍膜原理分析

離子濺射儀的鍍膜的主要方式有兩種：熱蒸發和離子濺射（包括直流濺射和磁控濺射）。

 熱蒸發是通過對鍍膜材料加熱使其蒸發氣化而沉積到樣品表面并形成膜。




離子濺射是將靶材、樣品均置于真空室中；首先進行抽真空，實現輝光放電所需的低氣壓環境；靶材接高壓，為負極；樣品臺接地，為正極；靶材與樣品臺之間形成高壓電場，電離氣體；氣體電離后，正離子飛向負極，轟擊靶材，靶材原子被濺射飛出，沉積到樣品上形成導電膜。






MSP-1S

該設備專用于貴金屬薄膜涂層，用于SEM觀察。 該裝置進行貴金屬涂層，以防止SEM樣品充電并提高二次電子生成的效率。 除了使用磁控管靶電極進行低壓放電外，樣品臺是浮動的，減少了電子束流入造成的樣品損壞。 操作簡單，只需按一下按鈕，就沒有技巧。 它很小，不占用太多空間。 它在桌子的角落很有用。
用途
用于 SEM 樣品的金屬涂層設備。

關于目標金屬

當您下第一個訂單時，您將收到您選擇的一個貴金屬目標。
請根據使用目的選擇。


AU：黃金觀察區域：10，000~10，000倍 Au-PD：金鈀

觀察區域：10，000~50，000倍
非常適合
低倍率觀察和良好的對比度。

鉑：鉑金 觀察區域：50，000~100，000次 Pt-PD：鉑鈀

觀察區域：30，000~50，000倍
它具有細
粒度，通常用于高倍率觀察。